DSpace JSPUI
DSpace preserves and enables easy and open access to all types of digital content including text, images, moving images, mpegs and data sets
Learn More
Please use this identifier to cite or link to this item:
http://hdl.handle.net/123456789/10736| Title: | Розповсюдження температурних профілів в нестехіометричних плівках SiOx при лазерному відпалі двома пучками |
| Other Titles: | Distribution of Temperature Profiles in Nonstoichiometric SiOx Films by Laser Annealing of the Two Beams |
| Authors: | Гаврилюк, Олександр Олександрович Семчук, Олександр Юрійович |
| Keywords: | нестехіометричні плівки теплопровідність нанокристали лазерний відпал |
| Issue Date: | 2014 |
| Publisher: | ДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника" |
| Citation: | Гаврилюк О. О. Розповсюдження температурних профілів в нестехіометричних плівках SiOx при лазерному відпалі двома пучками / О. О. Гаврилюк, О. Ю. Семчук // Фізика і хімія твердого тіла. - 2014. - Т. 15. - № 4. - С. 862-867. |
| Abstract: | Проведено теоретичне дослідження розповсюдження температурних профілів в нестехіометричних плівках SiOx при відпалі двома лазерними променями однакової інтенсивності. Розраховано розподіл температури на поверхні плівок SiOx, опромінених лазерними променями на різних відстанях один від одного. Показано, що при лазерному відпалі з інтенсивністю 52 МВт/м 2 температура на поверхні плівок SiOx може досягати 1800 К. Температура на поверхні зразка в міжлазерному проміжку недостатня, щоб стимулювати фазовий перехід плівки SiOx в нанокомпозитну плівку SiO2(Si) з кремнієвими нанокристалами. Наночастинки кремнію утворюються точно по позиціях пікової інтенсивності лазерного випромінювання. |
| URI: | http://hdl.handle.net/123456789/10736 |
| Appears in Collections: | Т. 15, № 4 |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| !1504-29.pdf | 1.03 MB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.