Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://hdl.handle.net/123456789/6970
Назва: Interaction of Electromagnetic H-wave with the thin Metal Film is Located on the Dielectric Substrate
Інші назви: Взаємодія елетромагнітних H-хвиль з тонкими металічними плівками, розташованими на діелектричній підкладці
Автори: Utkin, А. І
Yushkanov, А. А.
Ключові слова: the thin metal film
dielectric environments
reflection coefficient
transmission coefficient
Дата публікації: 2015
Видавництво: ДНВЗ "Прикарпатський національний університет імені Василя Стефаника"
Бібліографічний опис: Utkin A. I. Interaction of Electromagnetic H-wave with the thin Metal Film is Located on the Dielectric Substrate / А. І. Utkin, А. А. Yushkanov // Фізика і хімія твердого тіла. - 2015. - Vol. 16. - № 2. - P. 253-256.
Короткий огляд (реферат): Interaction of electromagnetic H-wave with thin metal film is located between two dielectric environments ε1, ε2 in the case of different incident angles of H-wave θ and in the case of different reflection coefficients q1 и q2 is calculated in this article. Behavior analysis of reflection coefficient R, transmission coefficient T and absorption coefficient A in the case of its frequency dependence y and variation dielectric permeability of its environments is done.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://hdl.handle.net/123456789/6970
Розташовується у зібраннях:Т. 16, № 2

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
741-2343-1-SM.pdf96.26 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.